柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。适用于薄膜的精度拉伸测试

柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
【1】适用于薄膜的小曲率折叠测试；、
【2】 薄膜的小曲率测试；
       【3】测试零应力；
       【4】 无表面摩擦；
       【5】 弯曲半径低至0.5mm；
       【6】 高可靠性（百万次）；
       【7】可扩展性（多工位、光学、电学性能测试辅助系统）。

柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
  【1】适用于线材的扭转测试；
【2】大角度扭转 (5400°)；
     【3】线径适应性广；
     【4】 高可靠性（百万次）；
     【5】自适应性（过程中受拉力相同）。

柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
【1】适用于薄膜的卷对卷测试；
      【2】连续卷绕式测试（包含正反转）；
      【3】大曲率、大面积、连续性样品；
      【4】 高稳定性（百万次）。

柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
【1】适用于固定曲率精度测试；
  【2】曲率精度：10 µm；
  【3】 测试自适应；
  【4】高稳定性（百万次）；
  【5】弯曲半径可选择(2.5-40mm)。

柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
【1】 高稳定性适用于薄膜的卷绕测试；
【2】测试零应力；
     【3】无表面摩擦；
     【4】大曲率、大面积样品（样品尺寸和曲率可调）。
    

​​​​​​​柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
  【1】适用于大曲率、大面积弯曲测试；
【2】测试零应力；
  【3】无表面摩擦；
  【4】大曲率、大面积样品；
  【5】高可靠性（百万次）；
 【6】 可扩展性（多工位、光学、电学性能测试辅助系统）。

​​​​​​​柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。
产品特性
【1】适用于薄膜的扭转测试；
【2】 高可靠性（百万次）；
     【3】 样品自适应性 （过程中受拉力相同，无弯折）；
【4】可扩展性（光学、电学性能测试辅助系统）。

产品特点
【1】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【2】按需供墨，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【3】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究
【4】关键部件（狭缝涂布头、PLC控制部分、伺服电机、研磨级丝杆等）采用国外进口，保证系统精度及设备可靠性；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等；
【6】各类桌面级设备已应用于国内高校、科研机构及各类研发中心；

产品特点
【1】落地式设备，为设备提供平稳性与储存空间；
【2】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【3】按需供墨，狭缝涂布墨水用量1 ml，减少浪费和污染；
【4】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等。

产品特点
【1】高精度狭缝涂布机:落地式设计，为提供设备的平稳性；
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达400 mm；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【4】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【5】可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统等。

产品特点
【1】采用大理石模组，保证运行的平稳与精度；
【2】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；
【2】机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；
【3】包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；
【4】狭缝涂布墨水用量只需1 ml。适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；狭缝涂布墨水用量只需1 ml。

卷对卷多功能狭缝涂布机
【1】模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀刮涂、超声喷涂、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换。
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】为氢燃料电池、电解水制氢工艺研究及中试放大而开发的连续制备设备；
【2】助力产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点：
1.采用大理石模组，保证运行的平稳与高精度；
2.集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染;
3.适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。适用范围：适用于大面积钙钛矿电池、氢燃料电池、电水解制氢等的制备。

产品特点
【1】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【2】按需供墨，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【3】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究
【4】关键部件（狭缝涂布头、PLC控制部分、伺服电机、研磨级丝杆等）采用国外进口，保证系统精度及设备可靠性；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等；
【6】各类桌面级设备已应用于国内高校、科研机构及各类研发中心；

产品特点
【1】落地式设备，为设备提供平稳性与储存空间；
【2】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【3】按需供墨，狭缝涂布墨水用量1 ml，减少浪费和污染；
【4】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等。

产品特点
【1】高精度狭缝涂布机:落地式设计，为提供设备的平稳性；
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达400 mm；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【4】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【5】可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统等。

产品特点
【1】采用大理石模组，保证运行的平稳与精度；
【2】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；
【2】机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；
【3】包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；
【4】狭缝涂布墨水用量只需1 ml。适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；狭缝涂布墨水用量只需1 ml。

卷对卷多功能狭缝涂布机
【1】模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀刮涂、超声喷涂、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换。
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】为氢燃料电池、电解水制氢工艺研究及中试放大而开发的连续制备设备；
【2】助力产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点：
1.采用大理石模组，保证运行的平稳与高精度；
2.集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染;
3.适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。适用范围：适用于大面积钙钛矿电池、氢燃料电池、电水解制氢等的制备。

产品特点
【1】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【2】按需供墨，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【3】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究
【4】关键部件（狭缝涂布头、PLC控制部分、伺服电机、研磨级丝杆等）采用国外进口，保证系统精度及设备可靠性；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等；
【6】各类桌面级设备已应用于国内高校、科研机构及各类研发中心；

产品特点
【1】落地式设备，为设备提供平稳性与储存空间；
【2】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【3】按需供墨，狭缝涂布墨水用量1 ml，减少浪费和污染；
【4】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等。

产品特点
【1】高精度狭缝涂布机:落地式设计，为提供设备的平稳性；
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达400 mm；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【4】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【5】可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统等。

产品特点
【1】采用大理石模组，保证运行的平稳与精度；
【2】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；
【2】机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；
【3】包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；
【4】狭缝涂布墨水用量只需1 ml。适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；狭缝涂布墨水用量只需1 ml。

卷对卷多功能狭缝涂布机
【1】模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀刮涂、超声喷涂、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换。
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】为氢燃料电池、电解水制氢工艺研究及中试放大而开发的连续制备设备；
【2】助力产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点：
1.采用大理石模组，保证运行的平稳与高精度；
2.集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染;
3.适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。适用范围：适用于大面积钙钛矿电池、氢燃料电池、电水解制氢等的制备。

产品特点
【1】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【2】按需供墨，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【3】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究
【4】关键部件（狭缝涂布头、PLC控制部分、伺服电机、研磨级丝杆等）采用国外进口，保证系统精度及设备可靠性；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等；
【6】各类桌面级设备已应用于国内高校、科研机构及各类研发中心；

产品特点
【1】落地式设备，为设备提供平稳性与储存空间；
【2】模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；
【3】按需供墨，狭缝涂布墨水用量1 ml，减少浪费和污染；
【4】大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究；
【5】可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等。

产品特点
【1】高精度狭缝涂布机:落地式设计，为提供设备的平稳性；
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达400 mm；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；
【4】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【5】可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统等。

产品特点
【1】采用大理石模组，保证运行的平稳与精度；
【2】工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；
【3】集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低至1 ml，减少浪费和污染；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；
【2】机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；
【3】包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；
【4】狭缝涂布墨水用量只需1 ml。适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；包含狭缝涂布、刮刀刮涂、气刀吹扫模块；狭缝涂布墨水用量只需1 ml。

卷对卷多功能狭缝涂布机
【1】模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀刮涂、超声喷涂、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换。
【2】助力实验室走向产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；
【4】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点
【1】为氢燃料电池、电解水制氢工艺研究及中试放大而开发的连续制备设备；
【2】助力产业化，涂印速度可达 5m/min，宽度可达300 mm；
【3】适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

产品特点：
1.采用大理石模组，保证运行的平稳与高精度；
2.集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染;
3.适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。适用范围：适用于大面积钙钛矿电池、氢燃料电池、电水解制氢等的制备。